Vanadium carbide VC sputtering targets use in thin film coating CAS: 12070-10-9

Vanadium carbide (VC) sputtering targets     

Purity: 99.5%

Sputtering Targets : Diameter: 355.6mm (14") max. 

Single piece Size: Length: <254mm, Width: <127mm, Thickness: >1mm, 

if larger size than this, we can do it as Tiles joint by 45 degree or 90 degree

Molar mass 62.953 g/mol , 

Appearance refractory black cubic crystals, 

Density 5.77 g/cm3, 

Melting point 2810 oC

It is an extremely hard refractory ceramic material. WIth a hardness of 9-9.5 Mohs, it is possibly the 

hardest metal-carbide known. It is of interest because it is prevalent in vanadium metal and alloys.

Vanadium carbide can be formed in the (111) orientation, when formed by radio frequency magnetron 

sputtering. 

Although VC is thermodynamically stable, it converts to V2C at higher temperatures.

We also supply below carbide sputtering targets material:
 
Chromium Carbide Cr2C3, CrC
 
Hafnium Carbide  HfC
 
Niobium Carbide  NbC
 
Silicide Carbide  SiC
 
Tantalum Carbide  TaC
 
Titanium Carbide  TiC
 
Tungsten Carbide  WC
 
Vanadium Carbide  VC
 
Zirconium Carbide  ZrC
 
Tantalum Hafnium Carbide   Ta4HfC5