Nitride Sputtering Targets

Spec.: 

 

Diameter: 355.6mm (14") max. 

Single piece Size: Length: <500mm, Width: <250mm, Thickness: >1mm, 

if larger size than this, we can do it as tiles joint by 45 degree or 90 degree.

Shape: discs, plate, rod, tube, sheet, Delta, and per drawing 

Made sputtering targets method: hot pressing (HP), hot/cold isostatic pressing (HIP, CIP), and vacuum melting, vacuum sintering

 

 

Material Name

 Formula

Purity

Aluminum Nitride

AlN

99.9%

Boron Nitride

BN

99.5%

Silicon Nitride

Si3N4

99.5%

Titanium Nitride

TiN

99.5%

Tantalum Nitride

TaN

99.5%

Zirconium Nitride

ZrN

99.5%

Niobium Nitride

NbN

99.5%

Chromium Nitride

CrN

99.5%

Hafnium Nitride

HfN

99.5%

Copper Nitride

Cu3N

99.5%

Magnesium Nitride 

Mg3N2

99.5%

We have only listed the more popular material. Please feel free contact us with any special requirements at any times, we will try to get back for you ASAP.

 

 

offering sputtering targets, evaporation material, rare earth metal, rare earth oxide, chemistry reagent

 

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