通過真空熔煉法或粉末冶金法,熱等靜壓法等方法提供高純度, 高密度的二元合金及三元,四元合金
合金濺射靶材形狀: 方板, 箔片, 圓盤狀, 棒狀, 環狀等等
合金濺射靶材純度: 99%至99.999%
合金濺射靶材規格: 直徑最大<300mm, 長<1000mm x 寬<300mm
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(Al)-鋁合金濺射靶材: 鋁-銀, 鋁-銅, 鋁-硅, 鋁-硅-銅, 鋁-鎳, 鋁-鎂, 鋁-釹, 鋁-鉻, 鋁-鉿, 鋁-鈧, 鋁-鈦合金等
(Sb)-銻 合金濺射靶材: 銦-銻 合金等
(Bi) -鉍 合金濺射靶材 : Bi-Sn, Bi-Fe alloy e.t.c
(B) 硼 合金濺射靶材: 鈷-鐵-硅-硼 合金等
Cobalt (Co) - 鈷 合金濺射靶材: Co-Fe, Co-Fe-Si, Co-Sm, Co-Ni, Co-Cr e.t.c
Cerium (Ce) - 鈰 合金濺射靶材: Ce-Gd e.t.c
Copper (Cu) - 銅 合金濺射靶材: Cu-Al, Cu-Ag, Cu-Mg e.t.c
Chromium (Cr) - 鉻 合金濺射靶材: Cr-Fe, Cr-Ni, Cr-Al e.t.c
Dysprosium (Dy) - 鏑 合金濺射靶材: Dy-Fe, Dy-Tb-Fe e.t.c
Gadolinium (Gd) -釓 合金濺射靶材: Gd-Fe, Gd-Mg alloy e.t.c
Germanium (Ge) - 鍺 合金濺射靶材: Ge-Te alloy e.t.c
Hafnium (Hf) -鉿 合金濺射靶材: Hf-Al, Hf-Fe, Hf-Y alloy e.t.c
Holium (Ho) -鈥 合金濺射靶材: Ho-Cu alloy e.t.c
Indium (In) -銦 合金濺射靶材: In-Sn, In-Zn, In-Sb alloy e.t.c
Iron (Fe) -鐵 合金濺射靶材: Fe-Co alloy e.t.c
Magnesium (Mg) -鎂 合金濺射靶材: Mg-Cu, Mg-Al e.t.c
Manganese (Mn) -錳 合金濺射靶材: Mn-Fe alloy e.t.c
Molybdenum (Mo) - 鉬 合金濺射靶材: Mo-Al, Mo-Nb, Mo-V, Mo-Ta, Mo-W alloy e.t.c
Neodymium (Nd) - 釹合金濺射靶材: Nd-Al, Pr-Nd, Nd-Ag alloy e.t.c
Niobium (Nb) -鈮合金濺射靶材: Nb-Ta, Nb-Ti, Nb-Mo alloy e.t.c
Nickel (Ni) -鎳合金濺射靶材: Ni-Cr, Ni-Ti, Ni-Fe, Ni-Mn, Ni-Al, Ni-V alloy e.t.c
Praseodymium (Pr) -鐠合金濺射靶材: Pr-Nd alloy alloy e.t.c
Scandium (Sc) -鈧合金濺射靶材: Sc-Al alloy alloy e.t.c
Silicon (Si) -硅合金濺射靶材: Si-Al alloy alloy e.t.c
Samarium (Sm) -釤合金濺射靶材: Sm-Co, Sm-Fe alloy e.t.c
Silver (Ag) -銀合金濺射靶材: Ag-Cu, Ag-Al alloy e.t.c
Tantalum (Ta) -鉭合金濺射靶材: Ta-Nb, Ta-Al, Ta-W alloy e.t.c
Terbium (Tb) -鋱合金濺射靶材: Tb-Dy-Fe, Tb-Dy, Tb-Fe alloy e.t.c
Titanium (Ti) -鈦合金濺射靶材: Ti-Ni, Ti-Nd, Ti-Al, Ti-W alloy e.t.c
Tin (Sn) -錫合金濺射靶材: Sn-Zn e.t.c
Vanadium (V) -釩合金濺射靶材: V-W, V-Fe, Ni-V alloy e.t.c
Tungsten (W) -鎢合金濺射靶材: W-Ti, W-B, W-Al, W-Ta alloy e.t.c
Yttrium (Y) -釔合金濺射靶材: Y-Al, Y-Hf, Y-Zr alloy e.t.c
Zirconium (Zr) -鋯合金濺射靶材: Zr-Y, Zr-Al alloy e.t.c
Zinc (Zn) -鋅合金濺射靶材: Zn-Mg, Zn-Mg-Cu, Zn-Al alloy e.t.c
如有其它元素中間合金需要, 請隨時與我們聯繫, 我們將會在24小時內回復.
