纯度可以做到99.9%和99.99%, 可做成长方板状,圆盘状,薄片状,棒状,管状,用于蒸镀材料的规则颗粒状3 x 3 or 6 x 6,或不规则颗粒状,靶材表面可达到RA16微米,可根据图纸加工复杂的项目, 具体尺寸及详细规格资料,请与我们联系.

金属铟靶材, 金属铟丝, 金属铟锭, 氧化铟靶材, 氧化铟锡(ITO)靶材,氧化铟锌靶材(In2O3-ZnO), 氧化铟镓靶材In2O3-Ga2O3 (IGO), 氧化铟锌镓靶材 In2O3-ZnO-Ga2O3 (IZGO), 铟锡合金靶材, 铟锌合金靶材, 及用于半导体材料的砷化铟 InAs, 锑化铟 InSb, 硒化铟 InSe.